我公司针对离子刻蚀设备的抄板圆满完成

  　我公司针对离子刻蚀设备的抄板圆满完成，此离子刻蚀设备具备以下特点：

　　1. 自动工艺配方表，灵活方便的手动调节。

　　2. 工艺配方可U盘导入、导出，保证数据安全。

　　3. 下游流量控制，确保气体组分及比例稳定。

　　4. 完善的安全控制，通过互锁及冗余控制，保证系统安全。

　　5. 所有运行参数可监控，并生成报表，以供追溯分析。

　　6. 整机采用无油部件，可应用于净化间。

　　7. 全自动控制解决方案，可实现一键到底式操控体验。

　　8. 自动控制与手动操作一体化设计，无缝衔接。

    主要技术指标：

　　可加工尺寸 5英寸

　　基片台冷却 水冷+氦气背冷

　　可刻蚀材料 硅基材料及金属

　　腔室尺寸 225mm譎350mm

　　真空系统 620L/S分子泵+8L/S干泵

　　极限真空 5.0×10-4Pa

　　电源系统 13.56MHz、1000W射频电源，自动匹配、自动控制；13.56MHz、500W射频电源，自动匹配、自动控制

　　压力控制 MKS压力控制系统、下游流量控制

　　气路 6路流量控制器，全自动控制、全自动现实并记录流量参数

　　控制系统一体化工业控制器

　　系统软件 ICP定制控制软件

　　报警及保护对电极缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并保护

　　我公司抄板实力雄厚，如有需要请致电我公司商务中心洽谈业务。